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真空爐
氣氛回轉爐 銀基粉末燒結爐 氣氛保護旋轉管式爐
  • 時間:2021-09-06 16:48:49    點擊:

一、概述金屬高溫氧化時,只有生成完整的、致密的、與金屬基體附著良好的氧化膜,才有可能保護金屬。金屬高溫氧化的主要理論為瓦格納氧化理論,符合該理論時,氧化膜的增厚與氧化時間呈拋物線關系。金屬高溫氧化速率主要受氧化膜中的缺陷種類及濃度、氧化膜的體積與所消耗金屬的體積之比、氧化膜中的應力等因素控制。 二、產品用途 此爐型主要用于金屬氧化、銀基粉末燒結或顆粒在氣氛保護中的動態燒結。旋轉過程中銀基粉末或顆粒能翻轉、拋落,使物料受熱更均勻,減少結團、品質更高。進出料方便,且出料干凈。注:旋轉管式爐 高溫金屬氧化爐更多型號及規格可以根據用戶實際需求定制,價格非標,歡迎選購,咨詢電話:0510-87195028
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